日本が最先端の露光装置分野で世界をリードできる最大の強みの一つは、「EUVリソグラフィに関連する素材・部材および周辺装置における卓越した供給力」にあります。これは、半導体露光装置そのもののグローバルシェアがオランダのASMLに大きく偏る一方で、「装置が本来の性能を発揮するための基盤技術とサプライチェーンの中核」を日本メーカーが担っている点に特徴があります。
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1．EUVリソグラフィで際立つ日本の不可欠な存在感
現代の半導体製造、とりわけ微細化が徹底的に進む5nm～3nmプロセス以降のデバイス量産には、「極端紫外線（EUV: Extreme Ultraviolet）」露光技術の活用が不可欠となっています。EUV露光装置のコア技術や本体の供給はASML社（オランダ）がほぼ独占する状況ですが、この最先端装置が最大性能を発揮し、世界中の半導体ファウンドリで継続的な量産プロセスを支えるためには、日本メーカーの高品位素材、特殊部材、精密周辺装置がグローバル市場でほぼ唯一無二の役割を担っています。
主な日本の強みと担い手
| 技術・分野 | 主な日本企業 |
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| マスクブランク | AGC・HOYA・信越化学 |
| フォトレジスト | JSR・TOK・信越化学・住友化学 |
| 塗布・現像装置 | 東京エレクトロン |
| EUVマスク検査装置 | レーザーテック |
これらの分野では、日本企業がグローバルシェアで50～90％以上と圧倒的な位置を誇り、ASMLやTSMC、サムスン電子、インテルなどの世界的な製造拠点にも不可欠な供給網を築いています。
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2．技術的優位性 ― 世界が認める「異次元の精度」と「信頼性」
半導体露光工程は、1ナノメートルという原子レベルの精度が求められる極めてシビアな領域です。たとえば「マスクブランク」はEUV光の損失や散乱を極限まで低減する世界最高純度のガラス基板に反射防止膜を積層した製品であり、ごくわずかな欠陥でも歩留まりに大きく影響します。AGC、HOYA、信越化学など日本の企業は、極低欠陥・高均質で世界で唯一「EUV量産に耐えうる品質」を安定供給し、なおかつ技術進化へのスピーディな追従姿勢も高評価されています。
同様に「フォトレジスト」（感光性樹脂）もEUV対応では世界3強がすべて日本企業で構成される特殊領域となっています。さらに、露光～現像工程で使用する「塗布・現像装置」は東京エレクトロンがグローバルリーダーであり、先端EUVプロセス装置の9割近くが同社製というデータもあります。
また、露光装置で不可欠な「マスク欠陥検査」ではレーザーテックが技術・市場を独占する状況にあり、TSMCなど巨大ファウンドリの量産を下支えしています。
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3．総合技術力と分業によるエコシステムの強さ
ASMLの装置開発には、日本の精密光学部品、セラミックス、超高純度材料が不可欠です。Orbrayなどは超精密な光ファイバー加工、光モジュール設計・組立といったサブシステム分野で強い技術ポートフォリオを持ち、EUV装置の高性能化に貢献しています。
これらは、「単独ブランドで世界シェアを独占する」スタイルとは異なりますが、グローバルな半導体製造エコシステムにおける“技術プラットフォームの中核”として日本メーカーの存在感と競争力を高めています。
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4．未来への展望
半導体プロセスの微細化競争は今後も続き、EUV次世代のハイパーNA（開口数をさらに増やした新世代光学系）や、量子デバイス等の新領域にも応用が進む見通しです。この進化に対応するためには、さらに純度、精度、生産性、安定供給力を追求した素材・部材技術、システムインテグレーション力が鍵となります。
日本企業が持つ「異次元レベルの精密加工」「一貫した品質管理」「業界トップクラスの研究開発力」は、今後も最先端露光装置および関連サプライチェーンのグローバル競争力をけん引し続けるでしょう。
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日本メーカーの最大の強みは、世界中の最先端半導体露光現場を縁の下で「絶対不可欠な供給パートナー」として支え、エコシステム全体の中で不可替代の地位を築いている点です。これは、表面的な市場シェア以上に「先端技術の本質と安全保障」に直接結びつく、日本製造業の底力といえます。
